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等离子体化学气相沉积（PCVD）技术的基本特征有哪些？
问答题
2019-12-13 13:20:26
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参考答案：PCVD技术是通过反应气体放电来制备薄膜的，这就从根本上改变了反应体系的能量供给方式，从而有效地利用非平衡等离子...
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参考答案
科目：
材料化学
学科：
材料科学与工程
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